年，诺贝尔化学奖颁发给了致力于时间分辨率上的超快光谱探测技术的科学家。光谱成像技术在大气探测中的应用主要分为两个方面：一方面，检测大气中温室气体的含量，如二氧化碳、臭氧及污染气体；另一方面，确定大气温度和水汽垂直分布的情况，进行大气过程研究和地球表面成分分析等。
年第五届世界光子大会是中国光学工程学会年会，包括第13届国际应用光学与光子学技术交流大会（AOPC 2024）和第十五届中国光电子产业博览会等活动，预计会议规模近1500人。在电子束光刻（EBL）技术中，束流遮断（Beam Blanking）策略是实现高精度图案化的重要组成部分。掩模准备：首先在基板上旋涂一层牺牲层（通常是光刻胶）；然后，通过掩模对光刻胶进行曝光，开发出所需的图案。
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前烘烤：涂覆后，进行预烘烤（pre-bake），以减少光刻胶中的溶剂含量并稳定其性能。会议同期举办第十五届中国光电子产业博览会，参展商900余家，博览会包括红外微光技术与应用、激光与智能制造、光通信&光传感及物联网、光学&精密光学制造、测控技术与仪器、创新科技及实验成果、微纳制造、北京半导体展览会等八大主题。然而，它们之间的关键区别在于曝光源的不同：EBL使用电子束，而光学光刻则利用光。
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来自中国顶尖高校和研究机构的专家学者，他们将分享各自在光谱技术领域的最新研究成果和应用案例。年第十五届光电子产业博览会将于2024年7月24-26日日在北京·国家会议中心举办，大会将全面呈现红外微光技术与应用、激光与智能制造、光通信&光传感及物联网、光学&精密光学制造等八大主题展，为您带来一场光电子领域的全新盛宴。
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光谱成像技术最初被应用于矿物探测、岩矿识别、油气渗漏监测和矿产环境监测，这也是最初高光谱遥感应用的最成功的领域。光谱技术，作为分析物质性质、结构和动态过程的重要手段，其核心在于通过测量物质与光相互作用时产生的光谱信息，来获取物质的特征参数。曝光和显影参数：正确的曝光时间和强度，以及显影条件，可以影响光刻胶的侧壁形状和稳定性，从而影响下切效果。
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不同的文物具有不同的分子结构和年代特征，因此在一定的光谱波段范围有不同的自然发光光谱、吸收光谱、散射光谱、受激发射光谱的特性，不同的文物由于具有不同的分子结构特征和年代特征都具有各自的特征波长，将这些特征波长作为检测和鉴定文物的指纹。电子束曝光：使用电子束光刻机，按照预先设计的图案对光刻胶进行精确曝光。
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